Chase
Contents:
  1. Design Rule Checking (DRC) (Russian)
    1. Определение Design Rule Checking (DRC)
    2. Исторический фон и технологические достижения
    3. Связанные технологии и инженерные основы
      1. CAD-системы
      2. Параметры проектирования
    4. Последние тенденции
    5. Основные приложения
    6. Текущие исследовательские направления и будущие направления
    7. Сравнение технологий DRC и ERC
      1. DRC vs ERC
    8. Связанные компании
    9. Соответствующие конференции
    10. Академические общества

Design Rule Checking (DRC) (Russian)

Определение Design Rule Checking (DRC)

Design Rule Checking (DRC) — это автоматизированный процесс проверки, который используется в проектировании полупроводников и ВЛСИ-систем для обеспечения соответствия дизайна заранее установленным правилам и стандартам. Эти правила касаются физических параметров, таких как ширина линий, расстояние между элементами, и другие характеристики, которые критически важны для того, чтобы гарантировать работоспособность и надежность интегральных схем. DRC обычно выполняется с использованием специализированного программного обеспечения, которое анализирует проектные файлы и выявляет нарушения.

Исторический фон и технологические достижения

Процесс DRC возник в 1980-х годах вместе с развитием CAD (Computer-Aided Design) инструментов для проектирования интегральных схем. Ранее проектирование выполнялось вручную, что было трудоемким и подверженным ошибкам. Введение DRC значительно ускорило этот процесс и повысило его надежность.

С течением времени DRC-программы эволюционировали, чтобы учитывать новые технологии, такие как FinFET и 3D IC, которые требуют более сложных правил. Современные инструменты DRC также интегрируются с другими этапами проектирования, такими как Layout versus Schematic (LVS) проверка и Electrical Rule Checking (ERC).

Связанные технологии и инженерные основы

CAD-системы

CAD-системы играют ключевую роль в DRC. Они обеспечивают графический интерфейс для проектирования и позволяют интегрировать DRC как часть рабочего процесса. Используемые инструменты, такие как Cadence, Mentor Graphics и Synopsys, предоставляют мощные функции для DRC, включая визуализацию и автоматизированное исправление ошибок.

Параметры проектирования

Некоторые важные параметры, которые проверяются в DRC, включают:

  • Ширина линий: Минимальная ширина проводников на чипе.
  • Расстояние между элементами: Минимальное расстояние между соседними проводниками или компонентами.
  • Контуры: Проверка форм и размеров элементов дизайна.

Последние тенденции

С увеличением сложности проектирования и уменьшением размеров технологий наблюдается рост интереса к DRC с точки зрения оптимизации. Новые методы, такие как машинное обучение и AI, начинают использоваться для автоматизации процесса проверки и предсказания потенциальных ошибок. Также активно разрабатываются правила для новых материалов, таких как графен и углеродные нанотрубки, что открывает новые горизонты для DRC.

Основные приложения

DRC находит применение в различных областях, включая:

  • Проектирование микропроцессоров: Обеспечение соответствия стандартам для сложных ASIC.
  • Проектирование MEMS: Проверка соответствия микромеханических систем.
  • Фотоника: Проверка дизайна оптических интегральных схем.

Текущие исследовательские направления и будущие направления

Текущие исследования в области DRC сосредоточены на:

  • Интеграции AI: Использование алгоритмов машинного обучения для улучшения точности и скорости DRC.
  • Моделировании новых материалов: Разработка DRC для новых полупроводниковых материалов.
  • Устойчивом проектировании: Учет экологических аспектов в правилах проектирования.

Сравнение технологий DRC и ERC

DRC vs ERC

  • Design Rule Checking (DRC): Ориентирован на физические правила проектирования, такие как размеры и расстояния между элементами.
  • Electrical Rule Checking (ERC): Ориентирован на электрические характеристики, такие как соединение и функциональность схемы.

Связанные компании

  • Cadence Design Systems
  • Synopsys
  • Mentor Graphics
  • Ansys
  • Keysight Technologies

Соответствующие конференции

  • Design Automation Conference (DAC)
  • International Conference on Computer-Aided Design (ICCAD)
  • IEEE International Symposium on Quality Electronic Design (ISQED)

Академические общества

  • IEEE Circuits and Systems Society
  • ACM Special Interest Group on Design Automation (SIGDA)
  • Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)

Эта статья предоставляет обширный обзор технологий DRC, их исторического контекста и значимости в современном проектировании полупроводниковых устройств.